Получение пленок титана методом магнетронного распыления для синтеза пористых пленок диоксида титана

Abstract

В статье приведены результаты исследования микроструктуры пленок, полученных с помощью маг- нетронной распылительной системы (МРС), собранной на базе ВУП-4. Разработанная МРС позволяет получать пленки с высокой скоростью осаждения с минимальными видимыми дефектами в структуре. Контроль скорости распыления производился за счет изменения напряжения распыления, которое приводит к изменению тока, что увеличивает и/или понижает степень ионизации газа, и выбиванию атомов мишени. Установлено, что с увеличением напряжения от 300 до 600 В скорость роста пленок увеличивается от 2,4 до 4 ангстрем в секунду. Установлено, что при напряжении около 400 В гранулы, составляющие пленку, имеют более крупную структуру, чем в пленках, полученных при 500 и 600 В. Проведен элементный анализ пленок, полученных методом МРС.